PACVD

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PACVD 离子加强化学气相沉积是在高度真空环境,温度低于 200 ℃的情况下,沉积极度光滑,粘着性能好的无定形金刚石硬质合金涂层。相对 PVD 工艺, PaCVD 工艺应用深镀电源,无需阴极靶材,同时工件在炉膛中无需旋转,该工艺为干净无污染,可靠,和多性能的涂层工艺。 PACVD 又叫 PECVD 。
中文名
离子强化气相沉积
外文名
Plasma assisted chemical vapor deposition
 简称
 PACVD
加工温度
200 ℃以下
涂层厚度
2~3 微米

PACVD基本信息

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PACVD 离子加强化学气相沉积是在高度真空环境,温度低于 200 ℃的情况下,沉积极度光滑,粘着性能好的无定形金刚石硬质合金涂层。相对 PVD 工艺, PaCVD 工艺应用深镀电源,无需阴极靶材,同时工件在炉膛中无需旋转,该工艺为干净无污染,可靠,和多性能的涂层工艺。 PACVD 又叫 PECVD 。

PACVD加工温度

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PACVD 涂层的加工温度在 200 ℃以下,大多数材料都能被用来涂层。
典型的涂层零件
PACVD 可用于绝大多数基体材料,电导材料和绝缘材料,典型应用包括发动机货物机械零件、泵零件、医疗器件和装饰件。
典型的涂层类型
爱恩邦德 PACVD 过程沉积大量的 ADLC 涂层。这一设计运用于特殊的应用领域,包括高精密应用领域,低应力应用领域和陶器应用领域。
涂层极高硬度( 10 — 40Gpa ),在结构组织上无定形并含有约 70% 的 SP3 bondings。
涂层厚度为 2~3 微米,典型的工艺时间大约 3.5 小时。
技术过程优势
· 适合多种材料
· 减少工艺时间,提高生产效率
· 低工艺温度,尺寸变形小
· 涂层厚度均匀,无论对几何形状简单还是复杂的零件
· 工艺对环境无污染
· 可对内孔进行涂层
PACVD 加工过程
词条标签:
科学 学科